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【编者按】自2020年举办以来，IC风云榜已成为半导体行业的年度盛事。今年新增12项奖项，共设39项大奖，进一步关注半导体投资与退出、科技前沿领域贡献、项目创新以及技术“出海”与拓展。评委会由超过100家半导体投资联盟会员单位及500+行业CEO组成。获奖名单将于2025半导体投资年会暨IC风云榜颁奖典礼上揭晓。
【候选企业】阜阳欣奕华新材料科技股份有限公司（以下简称：欣奕新材）
【候选奖项】年度技术突破奖
【候选产品】12英寸集成电路用248nm深紫外正性光刻胶：SKP10
1. 欣奕新材：光刻胶领域的领军企业
欣奕新材自光刻胶产业起步，已成为国内领先的光刻胶供应商。作为中国大陆首家实现彩色/黑色显示光刻胶（RGB/BM）大规模量产的企业，欣奕新材填补了国内光刻胶领域的空白，有效缓解了关键原材料的依赖性。
2. 半导体光刻胶领域的创新者
欣奕新材在半导体光刻胶领域也表现出色。拥有深厚的技术积累和由行业专家领衔的研发团队，欣奕新材专注于高端集成电路和先进封装制程应用光刻胶的开发与生产。其KrF、I-line和先进封装光刻胶产品已成功进入多家12英寸晶圆厂和先进封装产线，并获得订单。
3. 产业延伸与技术融合
依托在光刻胶领域的经验，欣奕新材不断进行产业技术融合和产品延伸。其研发的IC用特种光刻胶，如高分辨光刻胶（CIS）和微透镜光刻胶，均为国内首创，并已通过客户认证，可应用于CIS、AR/VR等领域。
4. SKP10：IC风云榜候选产品
欣奕新材凭借其明星产品SKP10角逐IC风云榜年度技术突破奖，成为候选企业。
SKP10：用于 12 英寸晶圆离子注入工艺的先进 KrF 光阻
SKP10 是一款专为 12 英寸晶圆制造中的离子注入工艺应用设计的 KrF 光阻。其卓越性能包括：
- 高深宽比（A/R）：>7/1
- 高解析度（CD）：250nm
- 宽工艺窗口
- 低驻波
- 卓越的抗离子注入性能
这些特性使 SKP10 能够灵活应用于不同膜厚（1-3μm）的离子注入工艺层，满足多个成熟制程技术节点的晶圆制造需求。
SKP10 采用创新的树脂和光酸体系，实现了光刻胶的透光率、光酸扩散速度、显影速率和抗离子注入性能的精细调控。这有效解决了离子注入应用中的常见难题，例如塌陷、顶层损失、驻波和抗离子注入性能不足。
技术领先性：
SKP10 已申请多项发明专利，涵盖光致抗蚀剂及其制备方法、KrF 树脂及其制备方法等多个领域。其技术实力领先业界。
应用验证：
SKP10 已在国内 12 英寸产线进行工艺、电学和良率验证，表现优异。
【奖项申报入口】
2025 半导体投资年会暨 IC 风云榜颁奖典礼将于 2024 年 12 月举办，奖项申报已启动。欢迎参与年度技术突破奖评选，共赴行业盛宴！
【年度技术突破奖】
表彰 2024 年度在技术创新领域取得重大突破的企业，为推动我国集成电路产业自主安全可控发展做出贡献。
【报名条件】
- 2024 年发布的新技术或产品具有原创性重大技术创新，达到国际先进/领先水平。
- 产品应用范围广，具有良好市场前景，对全球和国内半导体产业发展起到重要作用。
【评选标准】
- 技术的原始创新性（50%）
- 技术或产品的主要性能和指标（30%）
- 产品的市场前景及经济社会效益（20%）
